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Wafer-Rand-Reinigung
Semicore ist Anbieter von Wafer-Reinigungs-Systemen (Process Wafer Cleaning).
Mit einer speziell entwickelten, controllergesteuerten Wafer Cleaning Unit können wir auch den Rand Ihrer Silizium Wafer schonend reinigen, und damit eine wesentlich effektivere Wirkung des Cleaning Prozesses erzielen.
Wir informieren Sie gerne näher unter service@semicore.at
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